3 historias · “asml”.
CXMT dijo el 20 de septiembre de 2026 que su plataforma DRAM de quinta generación ya está en producción en masa, con cuádruple patronaje para lograr un semi-paso de 11,95 nm sin EUV.
Intel dice haber procesado más de un millón de obleas High-NA EUV, alrededor de tres cuartas partes del total mundial, mientras TSMC y Samsung se suman al estándar de máscaras que la compañía impulsó.
La litografía ultravioleta extrema usa luz de 13,5 nm procedente de plasma de estaño para imprimir las capas más pequeñas de un chip. Cómo funciona la EUV, cuánto cuesta y por qué ASML la controla.
